ZEISS/蔡司Axio Imager Vario正置顯微鏡

ZEISS/蔡司Axio Imager Vario正置顯微鏡

用于大型樣品的正置顯微鏡

介紹

ZEISS/蔡司Axio Imager Vario正置顯微鏡分析極小的MEMS傳感器或整塊平板。其支柱設計讓您可以檢測超大樣品，同時保持高度穩(wěn)定性。此外，Axio Imager Vario已獲得潔凈室使用認證。

·       檢查大型樣品

·       可兼容潔凈室

·       始終保持對焦

產(chǎn)品優(yōu)勢

檢查大型樣品

選擇手動或電動支柱，盡享可檢測最大尺寸為300 mm × 300 mm、最大高度為254 mm樣品的優(yōu)勢。無論是處理重型樣品還是與蔡司LSM材料共聚焦激光掃描顯微鏡結(jié)合使用，堅固的支柱設計均可防振動，提供可靠的穩(wěn)定性。

獲得潔凈室工作認證

晶圓和光掩模檢測對清潔度的要求非常高。因此，檢查需要在潔凈室內(nèi)完成。根據(jù)DIN EN ISO 14644-1標準，以每立方米內(nèi)顆粒數(shù)量和大小將潔凈室劃分成不同等級。Axio Imager Vario已通過該標準認證，滿足5級潔凈室的要求。ISO 5級潔凈室相當于原FED STD 209E（1992）標準的100級。

始終保持對焦

當檢測低襯度反光表面時，只需為您的Axio Imager Vario配備高效的硬件自動對焦。無論是對于反射光還是透射光，均可保證高精度。傳感器能夠探測到焦點位置變化，并自動補償任何偏差。即使是大型樣品，在移動時也能保持出色對焦。

硬件自動對焦

材料研究和工業(yè)生產(chǎn)需要對焦精度可達物鏡景深0.3倍的高精度對焦系統(tǒng)。鎖定范圍高達12000 µm的對焦系統(tǒng)可滿足該要求。該自動對焦適合使用反射光、透射光、明場、暗場、偏光、微分干涉相差及斜照明的應用。

應用

木材。反射光暗場，EC Epiplan-APOCHROMAT 10x/0.30 

電路板。反射光明場，EC Epiplan-NEOFLUAR 5x/0.13

晶圓。反射光暗場，EC Epiplan-APOCHROMAT 50x/0.95

單晶硅太陽能電池。反射光，C-DIC，EC Epiplan-APOCHROMAT 50x/0.95